고 진공 Chamber

• 도달 진공도: 5 Х 10^-6Torr이하
• Chamber Size: 700W Х 600D Х 700㎜H

R&D 장치로 도달압력 및 시간 가변 System

저 진공 Chamber

• 도달 진공도: 140Torr이하
• Chamber Size: 1000W Х 700D Х 1550㎜H

기압 Test를 위한 도달압력 가변System

저 진공 오븐

• 도달 진공도: 5 Х 10^-2Torr이하
• Chamber Size: Φ1650 Х 1200D
• 가열 온도: 120℃

제품을 세정 후 진공 건조하는 장치

He 가압 장치(6CH)

• 도달 진공도: 1 Х 10^-3Torr이하
• Chamber Size: Φ55 Х 65㎜H

He Leak Tester를 위한 소형 Size제품에 헬륨을 가압하는 System

He Leak Tester

• 검출 감도: 1 Х 10^-4~10^-12㎩․㎥/s
• Chamber Size: Φ100 Х 50㎜H

소형 Size제품을 He Leak Test하는 System

He LEAK TEST System

• 검출 감도: 1 Х 10^-4~10^-12㎩․㎥/s

Magnetron Tube의 He Leak Tester System

UHV Sputter System

• 도달 진공도 : 5 × 10-10Torr 이하
• Chamber size : Ø 600 × 450mmH
• 6-gun for Sputtering source
• Heater stage : Max. Temperature : 900℃

E-Beam Evaporator System

• 도달 진공도 : 5 × 10-8Torr 이하
• Chamber size : Ø 400 × 550mmH
• Sample size : 4” wafer & 4 pocket
• Heater stage : Max. Temperature : 900℃

HV Sputter System

• 도달 진공도 : 5 × 10-8Torr 이하
• Chamber size : Ø 550 × 450mmH
• 6-gun for Sputtering source
• Heater stage : Max. Temperature : 900℃

Magnet Annealing System

• 도달 진공도 : 5 × 10-6Torr 이하
• Chamber size : Ø 100 × 500mmH
• Heater stage : Max. Temperature : 800℃
• Sample 중심을 기준으로 5000gauss를 인가할 수 있는 장치

Pumping cart system

• 도달 진공도 : 5 × 10-7Torr 이하
• Turbo pump 및 Rotary pump
• 고 진공 배기장치